Ultradünne Siliziumdioxidschichten auf Silizium: Grenzflächenoptimierung und -charakterisierung auf atomarer Skala

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Stegemann, Bert: Ultradünne Siliziumdioxidschichten auf Silizium: Grenzflächenoptimierung und -charakterisierung auf atomarer Skala. In: Galvanotechnik 101, 10. (2010), S. 2376-2385.

ISSN

0016-4232

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