Ultradünne Siliziumdioxid-Schichten auf Silizium: Grenzflächenoptimierung und –charakterisierung auf atomarer Skala

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Beitrag Sammelwerk von Prof. Dr. Bert Stegemann

Zitation

Stegemann, Bert : Ultradünne Siliziumdioxid-Schichten auf Silizium: Grenzflächenoptimierung und –charakterisierung auf atomarer Skala. In: Dr. Ing. Richard Suchentrunk, Jahrbuch Oberflächentechnik 2009, S. 275-286, Eugen G. Leuze Verlag, Bad Saulgau, 2009, ISBN 978-3-87480-253-6

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