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Low-temperature preparation of SiO2 tunnel oxides on c-Si with chemically abrupt interfaces and low densities of defect states Veranstaltungsbeitrag › Posterpräsentation › 2013Veranstaltung XIII International Workshop on Semiconductor Surface Passivation (SSP 2013) Krakau, 08.09.2013 - 12.09.2013 Ergänzende Angaben Posterpräsentation von Lars Korte, Thomas Lussky, Manfred Schmidt, Heike Angermann Homepagehttps://ssp.conrego.pl/