Passivation of Crystalline Silicon Wafers by Ultrathin Oxide Layers: Comparison of Wet-chemical, Plasma and Thermal Oxidation Techniques
Veranstaltungsbeitrag › Vortrag › 2018
Veranstaltung
Waikoloa Village, 10.06.2018 - 15.06.2018
Ergänzende Angaben
Zugehörige Publikationen
- Passivation of Crystalline Silicon Wafers by Ultrathin Oxide Layers: Comparison of Wet-chemical, Plasma and Thermal Oxidation TechniquesKonferenzbeitrag › Konferenzpaper › 2018