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Ionengestützte Plasmaprozesse bei Atmosphärendruck Schutzrechtstitel Gebrauchsmuster Gebrauchsmuster › 2014 Zitation Bickel, Jan; Gesche, Roland; Krellmann, Martin. Hochschule für Technik und Wirtschaft Berlin. Gebrauchsmuster "Ionengestützte Plasmaprozesse bei Atmosphärendruck". DE 20 2014 105 705.6. (02.12.2014)